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Hitachi

日立ハイテクフィールディング

サンプル洗浄またはエッチング後の精密スパッタコーティングにとって理想的な装置です。
1台の装置でイオンビームエッチングおよびスパッタコーティングという2つの機能を備えたシステムです。

価格:お問い合わせください

(製造元:Gatan, Inc.)

取扱会社:株式会社 日立ハイテクフィールディング

特長

  1. 最小の試料処理操作、試料汚染の低減、除去、試料処理時間の短縮等、使いやすい設計になっています。
  2. 材料、特に半導体関連の試料に威力を発揮します。

仕様

項目内容
イオンソース イオンガン 小型希土類磁石付ペニングイオンガン3基
イオンビームエネルギー 1.0~10.0keV
ビーム径 約5mm(FWHM)
イオン電流密度 10mA/cm2ピーク
ガス流量 アルゴン0.1cc/分/ガン
エッチング領域 直径 約7~10mm(ガンエネルギーによる)
エッチングレート 10.0keVで、Si:約10µm/h、W:約3µm/h
エアロック
アセンブリ
試料ホルダー 1インチの金属性マウントとほとんどのSEM試料台に対応
試料回転 可変(10~60rpm)
試料傾斜 固定もしくは可変ロッキング角度(0°~90°)
試料ロッキング 可変(5°/秒~36°/秒)
オプション サイドエントリー方式のTEM、SEMホルダー用アダプター使用可
コーティング コーティングレート 10keV:カーボン 約0.5A/秒、Cr 約1.5A/秒
コーティング領域 直径1インチにわたり均一な成膜可
ターゲットホールダ 二種類のターゲットを有するターゲットホルダー2個真空下での交換可
ターゲット材 標準ターゲット: C、Cr、Pt、Au/Pd
オプション:lr、Pt、Ta、Ti、Au、Al203、Quartz、W、Au/Pd
薄膜モニター コーティングレートと膜厚を表示
真空系 ドライポンプシステム 2ステージのダイアフラムポンプ(背圧)と分子ドラッグポンプ
圧力 Base 5E-6 Torr(6.6E-4 Pa)、Under operation 6E-5 Torr(8E-3Pa)
真空ゲージ コールドカーソード(試料室)、ソリッドステート真空計(背圧)
試料交換 Gatan Wisperlok、試料交換時間 < 1分
液体窒素トラップ 約5時間の容量(標準)
寸法/
ユーティリティ
寸法 560mm(幅)×480mm(奥)×430mm(高)
重量 40kg
消費電力 使用時200W、ガン未使用時100W
電源 単相100~240VAC(ユーザ指定)、50/60Hz
ガス アルゴンガス70psi(4.82bar)

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