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Hitachi

日立ハイテクフィールディング

最小限の労力で質の高いTEMサンプルを作製する目的でデザインされた“ユーザーフレンドリー”な精密イオン研磨機です。
新開発のイオンガンにより、より効果的な低加速イオンミリングが可能となりました。

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写真はオプションのCCDカメラを取り付けた例です。

価格:お問い合わせください

(製造元:Gatan, Inc.)

取扱会社:株式会社 日立ハイテクフィールディング

特長

  1. 金属、半導体などのイオンミリングや、あるいは電解研磨でカバーしきれない試料作製に使用されます。
  2. 強力なイオンガンと精密なビームアライメント方式を採用、試料作製手順は簡素化されます。
  3. CCDカメラシステム(オプション)により、ミリング中の試料観察が可能です。
  4. 試料冷却機構(オプション)により、熱に弱い試料にも熱ダメージを抑えながらミリングすることが可能です。

仕様

項目内容
イオンソース イオンガン 小型希土類磁石付ペニングイオンガン2基
ミリング角度 +10°~-10°(0.1°ステップ)、ガンは個別に調整可能
イオンビームエネルギー 0.1~8.0keV
イオン電流密度 10mA/cm2ピーク
ビームアライメント 蛍光スクリーンを用いる
試料ステージ サンプルサイズ 3mmか2.3mm
装置 DuoPost(標準)もしくはグラファイト製ホルダー(オプション)
回転 1~6rpm
ビームモジュレーション シングルもしくはダブルのセクター(クロスセクション用)
観察 双眼顕微鏡
CCD TVカメラシステム×2000(オプション)
真空系 ドライポンプシステム ダイアフラムポンプ(背圧)/分子ドラッグポンプ
圧力 5E-6 Tor(ガン-off時)、8E-5 Tor(ガン-on時)
真空ゲージ 冷陰極型(メインチャンバー)、ソリッドステート真空計
試料エアロック Gatan Wisperlok、試料交換時間 < 30s
寸法/
ユーティリティ
寸法 495mm(幅)×575mm(奥)×615mm(高)
重量 45kg
消費電力 使用時200W、ガン未使用時100W
電力 単相100VAC、50/60Hz
ガス アルゴン25psi(1.72bar) 純度99.998%以上 冷却水不要

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