ページの本文へ

Hitachi

日立ハイテクサイエンス

無機分析セミナー2017

ICP-OESを中心に、最新装置の特徴、その測定例、ノウハウをお伝えします

2017年7月3日

この度、弊社サイエンスソリューションラボ大阪に、新型のCCDマルチ ICP発光分析装置 SPECTROBLUEを設置致しました。これにより、今後は、高分解能シーケンシャルPS3500DDIIを含めて2台のラインアップを揃え、皆様にご覧いただけることとなりました。

この機会にICPを中心に弊社の扱う無機元素分析装置の新技術や測定のノウハウをご紹介する セミナーを開催させていただきます。
また、ラボ見学の際には、CEM社マイクロウエーブ「MARS6」による前処理の最新技術も併せてご紹介いたします。
ご多用とは存じますが、ぜひ本セミナーへご参加くださいますようご案内申しあげます。

開催概要

開催日時

2017年7月28日(金)
13:00~17:00(受付開始 12:45~)

参加費

無料

定員

40名

会場

ニッセイ新大阪ビル18階 ネットカンファレンス
大阪市淀川区宮原三丁目4番30号
ニッセイ新大阪ビル18階 TEL:06-6391-1117

お申込み

本セミナーのお申込み受け付けは終了しました。

お問い合わせ

株式会社日立ハイテクサイエンス
大阪営業所 セミナー担当
TEL:050-3131-6973

講演内容

講演内容
13:00 開催挨拶
13:20 ICP発光分光分析装置 基礎と分析ノウハウについて
14:00 ICP発光分光分析装置 ラインアップの特徴と測定事例
~新型のマルチICP発光分析装置SPECTROBLUEの特徴を中心に~
14:40 休憩
15:00 原子吸光分光光度計 ZA3000シリーズを活用するノウハウ
15:30 新世代の蛍光X線分析装置 SPECTRO XEPOS(スペクトロ ゼポス)による高感度測定の紹介
16:00 質疑応答 ラボへ移動
16:10 ラボ見学(CEM社 MARS6の紹介やICP等の操作性を体感頂けます)
17:10 閉会