ページの本文へ

Hitachi

日立ハイテクソリューションズ

小型イオンビームミリング装置

特長

  • エッチング高レートと低レート制御が可能
  • 自転+傾斜するウェーハホルダー
  • 豊富なチャック方式を選択可能
  • コンパクトなフットプリント
  • 終点検知システム装備(ロードロック有にオプション適用)

主な用途

  • エレクトロニクスデバイス、MEMS製造用、微細加工研究、開発、試作、小量産用途など
  • 小型立体個体物へのイオン照射など

装置評価

お客さまの用途に合わせたサンプル処理を初回無償で提供します。
ウェーハサイズ、処理枚数などについては当社までお問い合わせください。

仕様

型式IM-150IM-200IM-250
イオン源サイズ Φ150 Φ200 Φ250
イオン源電圧 300~1000V
電流密度 ~1mA/cm2
対象基板 Φ4インチ×1 Φ5インチ×1 Φ6インチ×1
ホルダー動作 自転・傾斜
ホルダー冷却 水冷/ガス冷
ウェーハ交換 手動

ロードロック付も可能です。

製品ラインアップ

枚葉式イオンビームミリング装置

バッチ式イオンビームミリング装置

お問い合わせ先(営業)

  • TEL 03-6758-2091
  • FAX 03-5859-5763

当社製品のご購入やサービスの導入をご検討されているお客さまのご質問、ご相談などを承ります。ぜひ、お気軽にご相談ください。

関連リンク

イオンビームミリング装置の保守・サービス会社のWebサイトです。