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Hitachi

日立ハイテクソリューションズ

枚葉式イオンビームミリング装置

特長

  • エッチング高レートと低レート制御が可能
  • フィラメントレスµ波ニュートラライザ(オプション)
  • EPD(終点検知器)取付(オプション)
  • 反応性ガス対応(オプション)
  • フィラメントレスRFバケット型イオン源(オプション)

主な用途

  • MEMSの電極微細加工、高周波フィルターや化合物半導体の配線・電極加工、磁気ヘッド・磁気センサーなどの微細パターン/形状加工など

装置評価

お客さまの用途に合わせたサンプル処理を初回無償で提供します。
ウェーハサイズ、処理枚数などについては当社までお問い合わせください。


フィラメントレスµ波ニュートラライザ


IML-6-1 枚葉式ミリング装置

仕様

型式IML-5-1IML-6-1IML-8-1IML-8-2
イオン源サイズ Φ200 Φ250 Φ350 Φ300
イオン源電圧 300~1000V
電流密度 ~1mA/cm2
対象基板 Φ5インチ×1 Φ6インチ×1 Φ8インチ×1 Φ8インチ×2
ホルダー動作 自転・傾斜
ホルダー冷却 水冷/ガス冷

処理室が2室の装置も可能です。

製品ラインアップ

小型イオンビームミリング装置

バッチ式イオンビームミリング装置

お問い合わせ先(営業)

  • TEL 03-6758-2091
  • FAX 03-3504-5194

当社製品のご購入やサービスの導入をご検討されているお客さまのご質問、ご相談などを承ります。ぜひ、お気軽にご相談ください。

関連リンク

イオンビームミリング装置の保守・サービス会社のWebサイトです。