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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

1940年代

1940年代
1947年(昭和22年)4月 資本金19万5000円をもって、株式会社日之出商会として、東京都中央区に設立
1947年(昭和22年)10月 日製産業株式会社に社名変更(現 株式会社日立ハイテクノロジーズ)

1950年代

1950年代
1953年(昭和28年)1月 本社所在地を東京都港区に移転
1958年(昭和33年)1月 本店所在地を東京都千代田区に移転

1960年代

1960年代
1960年(昭和35年)5月 ニューヨーク出張所(現 日立ハイテクノロジーズアメリカ会社)設置
1960年(昭和35年)7月 デュッセルドルフ出張所(現 Hitachi High-Technologies Europe GmbH)設置
1964年(昭和39年)2月 香港駐在所(現 日立ハイテクノロジーズ香港会社)設置
1964年(昭和39年)3月 本社所在地を東京都港区西新橋二丁目に移転
1965年(昭和40年)4月 日立計測器サービス株式会社(現 株式会社日立ハイテクフィールディング)設立

1970年代

1970年代
1971年(昭和46年)10月 東京証券取引所第2部に上場
1972年(昭和47年)3月 シンガポール出張所(現 Hitachi High-Technologies (Singapore) Pte.Ltd.)設置
1972年(昭和47年)4月 日製石油販売株式会社(現 株式会社日立ハイテクマテリアルズ)設立
1972年(昭和47年)5月 ブラジル日製産業Ltda.(現 Hitachi High-Technologies do Brasil Ltda.)設立
1972年(昭和47年)10月 大阪証券取引所第2部に上場
1973年(昭和48年)7月 株式会社日製エレクトロニクス(現 株式会社日立ハイテクソリューションズ)設立

1980年代

1980年代
1980年(昭和55年)4月 カナダ日製産業Inc.(現 Hitachi High-Technologies Canada, Inc.)設立
1983年(昭和58年)9月 東京証券取引所・大阪証券取引所第1部に上場
1983年(昭和58年)10月 日製ソフトウェア株式会社設立(現 株式会社日立ハイテクソリューションズ)
1986年(昭和61年)3月 本社所在地を東京都港区西新橋一丁目に移転
1987年(昭和62年)4月 日製サービス株式会社設立(現 株式会社日立ハイテクサポート)
1987年(昭和62年)10月 日製エンジニアリング株式会社(現 株式会社日立ハイテクソリューションズ)設立

1990年代

1990年代
1993年(平成5年)4月 日製サイエンス株式会社(現 株式会社日立ハイテクノロジーズ)設立
1994年(平成6年)1月 タイランド日製産業会社(現 Hitachi High-Technologies (Thailand) Ltd.)設立
1994年(平成6年)10月 上海日製産業有限公司(現 日立高新技術(上海)国際貿易有限公司)設立
1998年(平成10年)1月 マレーシア日製産業会社(現 Hitachi High-Technologies IPC (Malaysia) Sdn. Bhd.) 設立
1999年(平成11年)3月 日製三洋ハイテクサービスPte.Ltd.(現 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ)設立

2000年代

2000年代
2001年(平成13年)10月 日立製作所の計測器グループ、半導体製造装置グループとの事業統合に伴い社名を「株式会社日立ハイテクノロジーズ」に変更、日立サイエンスシステムズ(現 株式会社日立ハイテクノロジーズ)、日立那珂エレクトロニクス(現 日立ハイテクソリューションズ)、日立那珂インスツルメンツ(現 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス)、計測テクノロジー(現 株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス)をグループ会社化
2002年(平成14年)1月 日製産業貿易(深圳)有限公司設立
(現 日立ハイテクノロジーズ深圳会社)
2002年(平成14年)3月 ギーゼッケ・アンド・デブリエント株式会社設立
2002年(平成14年)4月 Hitachi High Technologies America, Inc.設立(アメリカ日製産業Ltd.、日立インスツルメンツInc.は合併により消滅、H.H.T.A. Semiconductor Equipment Israel, Ltd.他2社を子会社化)
2003年(平成15年)4月 三洋ハイテクノロジー株式会社(現 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ)および三洋ハイテクサービス株式会社(現 株式会社日立ハイテクインスツルメンツ)をグループ会社化
2003年(平成15年)6月 委員会等設置会社に移行
2004年(平成16年)3月 日立電子エンジニアリング株式会社(現 株式会社日立ハイテクファインシステムズ)をグループ会社化
2004年(平成16年)4月 株式会社日製エレクトロニクスと日製エンジニアリング株式会社を合併し、株式会社日立ハイテクトレーディング(現 株式会社日立ハイテクソリューションズ)設立
2004年(平成16年)7月 計測テクノロジー株式会社と日立那珂インスツルメンツ株式会社を合併し、株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービス設立
2005年(平成17年)4月 株式会社日製サイエンスを株式会社日立ハイテクノロジーズに吸収合併
2005年(平成17年)4月 Hitachi High-Technologies Korea Co.,Ltd.設立
2005年(平成17年)5月 日立高科技貿易(上海)有限公司設立
2005年(平成17年)9月 日立先端科技股份有限公司(Hitachi High-Technologies Taiwan Corporation)設立
2006年(平成18年)4月 日立ハイテク電子エンジニアリング株式会社を株式会社日立ハイテクノロジーズに吸収合併
2007年(平成19年)4月 株式会社日立ハイテクサイエンスシステムズを日立ハイテクノロジーズに吸収合併
2007年(平成19年)6月 日立ハイテクデーイーテクノロジー株式会社と株式会社日立ハイテクインスツルメンツサービスが合併し、株式会社日立ハイテクエンジニアリングサービス(現 日立ハイテクファインシステムズ)設立

2010年代

2010年代
2010年(平成22年)4月 株式会社日立ハイテクインスツルメンツが、株式会社ルネサス東日本セミコンダクタの半導体製造装置事業を統合
2011年(平成23年)3月 日立高新技術(上海)国際貿易有限公司(Hitachi High-Technologies (Shanghai) International Trading Co., Ltd)が日立高科技貿易(上海)有限公司を吸収合併
2011年(平成23年)9月 PT. Hitachi High-Technologies Indonesia設立
2012年(平成24年)4月 株式会社日立ハイテクトレーディングと株式会社日立ハイテクソリューションズが株式会社日立ハイテクトレーディングを存続会社として合併し、株式会社日立ハイテクソリューションズに商号変更
2013年(平成25年)1月 エスアイアイ・ナノテクノロジー株式会社(現 株式会社日立ハイテクサイエンス)の全株式を取得し、他3社を子会社化
2013年(平成25年)4月 ファインテックシステム事業統括本部の全事業を株式会社日立ハイテクエンジニアリングサービスに譲渡し、同社は株式会社日立ハイテクファインシステムズに商号変更
2013年(平成25年)4月 Chorus Call Asia株式会社設立
2013年(平成25年)4月 Hitachi High-Technologies India Private Limited設立
2013年(平成25年)10月 株式会社日立ハイテクサイエンスが、当社の分析装置事業の設計及び国内販売機能を吸収分割承継
2013年(平成25年)10月 株式会社日立ハイテクコントロールシステムズが、株式会社日立ハイテクサイエンス、株式会社日立ハイテクソリューションズを承継会社とする吸収分割、株式会社日立ハイテクマニファクチャ&サービスを存続会社とする合併を行い、解散
2014年(平成26年)1月 Hitachi High-Technologies RUS Limited Liability Company設立
2014年(平成26年)4月 Hitachi High-Technologies Mexico S.A. de C.V.設立
2014年(平成26年)6月 Hitachi High-Tech AW Cryo, Inc.設立
2015年(平成27年)3月 株式会社日立ハイテクインスツルメンツとの共同新設分割により、ファスフォードテクロノジ株式会社を設立して両社の半導体後工程事業を承継させ、同社の全発行済株式を株式会社TYホールディングスに譲渡
2015年(平成27年)9月 株式会社日立ハイテクインスツルメンツを吸収合併