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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

2012年3月12日

株式会社日立ハイテクノロジーズ(執行役社長:久田 眞佐男/以下、日立ハイテク)は、米国FEI Company製 FIB/SEM装置*が、当社の集束イオンビームを利用したマイクロサンプリング技術に関連する特許権(特許第4589993号)を侵害しているとして、東京税関に対して輸入差止申立を行ないました。これに対して、米国FEI Companyは同特許権につき無効審判を請求しましたが、審判請求は成り立たないとの審決(特許有効審決)を特許庁は下しました。これを踏まえ、東京税関は、2012年3月6日、次の製品についての輸入差止申立を受理しました。

FEI Company 製
  • 「Quanta 200 3D」
  • 「Quanta 3D 200i」
  • 「Quanta 3D FEG」
  • 「Quanta 3D FEG 600」
  • 「Helios NanoLab 600」
  • 「Helios NanoLab 400」
  • 「Helios NanoLab 450」
  • 「Helios NanoLab 650」
  • 及び「Helios NanoLab 600i」(オムニプローブ及びGIS 装置*を備えるもの)
  • FEI Company 製「Helios NanoLab 400S」及び「Helios NanoLab 450S」(GIS 装置*を備えるもの)

日立ハイテクは、知的財産権を極めて重要な経営資源と位置付けており、今後とも日立ハイテクの知的財産権が侵害されたと判断した場合には、毅然とした態度で臨んでいく所存です。

(ご参考)
  • * FIB/SEM装置:走査電子顕微鏡(Scanning Electron Microscope)を有する集束イオンビーム(Focused Ion Beam)装置
(Focused Ion Beam)装置
  • * GIS装置:ガスインジェクションシステム(Gas Injection System)装置

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