ページの本文へ

Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

もっと速く、もっと正確に、もっときれいに!
TEM試料作製から大面積加工まで。

価格:お問い合わせください

取扱会社:株式会社 日立ハイテクノロジーズ

特長

  • 最大ビーム電流 60nAにより、加工の高速化と大面積加工を実現
  • 低加速電圧による低ダメージ試料作製
  • マイクロサンプリングによるピンポイント薄膜試料作製
  • 日立SEM、TEM、STEMとのホルダーリンケージ

仕様

項目内容
加速電圧 2~40kV
最大ビーム電流 60nA以上
最大ビーム電流密度 50A/cm2以上
像分解能 6nm以下(加速電圧40kV)
倍率(ディスプレイ上) 60~300,000倍
イオン光学系イオン源 Ga
対物レンズ絞り 電動切替式
レンズ・偏向器 静電2段式レンズ・8極静電式
デポジション 2系統(タングステン、カーボン)
加工機能 BOX加工、任意形状加工
画像取得 最大2,000×2,000ピクセル
排気系カラム イオンポンプ 2台
試料室 ターボ分子ポンプ
粗引き 油回転ポンプ 2台
大きさ・重さ本体 820(W)×880(D)×1,600(H)(mm),480kg(オプション含む)
操作卓 1,200(W)×880(D)×760(H)(mm),70kg
制御部 590(W)×780(D)×700(H)(mm),120kg
電源部 540(W)×860(D)×1,810(H)(mm),250kg
油回転ポンプ 530(W)×230(D)×410(H)(mm),30kg×2台
ウエイト 200(W)×180(D)×200(H)(mm),40kg
コンプレッサ(オプション) 400(W)×230(D)×550(H)(mm),18kg

据付条件

項目内容
室温 15~25℃(操作中の温度変化は5℃以内)
湿度 60% RH以下
電源 単相AC100V(±10%)、4kVA(50/60Hz)
接地 D種接地(100Ω以下)
ガス源圧力Air 0.4~0.6MPa(バルブ駆動用)
N2(オプション) 30~50kPa(N2リーク用)

 

特別付属品(オプション)

  • サイドエントリーステージ
  • ユーセントリックオートステージ
  • マイクロサンプリングシステム
  • 自動加工機能
  • 雰囲気遮断ホルダー
  • 各SEM/TEM/STEM共用ホルダー
  • N2ガスリーク
  • コンプレッサ

関連製品