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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

さわやか高原のレタス畑

©日立計測エンジニアリング(株) 檀紫、中川美音、山田満彦
©(株)日立製作所 計測器事業部 高橋要
©日立計測器サービス(株) 松本徳三郎

小高い丘の上、規則的に並んだレタスの列の向こうには晴れやかな空。
実は、これは16M DRAMメモリー素子のキャパシタ部分です。最先端を行く半導体技術も、このようなのどかな風景の中で培われたのかも知れません。
それにしてもこの写真、どのようにして撮影したのでしょうか?

1996年(第52回)日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:16M DRAM
  • 測定装置:走査電子顕微鏡 S-4200+PCI形高精細画像取り込み装置
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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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: 「nanoart」に掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
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: 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。