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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

幻光

©(株)日立サイエンスシステムズ 伊藤寛征、中山佳彦、高須久幸

高密度化する記録デバイスの読み込みを行うためのレーザー発生領域(625 nm)の様子をCL像を使って観察することができました。これは次世代へ向けてはばたく我々の希望の光のようです。

2000年(第56回)日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:レーザーダイオード
  • 測定装置:走査電子顕微鏡 S-4200特SE+カソードルミネッセンス
  • 撮影倍率:4,000倍
  • 加速電圧:25 kV
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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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: 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。