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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

微の伝統美

©(株)日立サイエンスシステムズ 黒澤浩一、今野武彦、森本剛司、渡邉俊哉、上村昌司

花鳥風月、ペイズリー、幾何学、あなたはどんな柄がお好みですか?これが今年注目の新柄です。
これは半導体デバイスの高密度多層配線を実現する上で重要な技術であるCMP(Chemical and Mechanical Polishing)処理を行った後のタングステン電極の配列をSEMで観察したものです。
この画像は、表面情報を持つ二次電子信号と組成情報を持つ反射電子信号を混合して得られたもので、あなたもハイテクが生み出した伝統美を身にまとってみませんか?

2002年(第58回)日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:Wプラグウェーハ(CMP)
  • 測定装置:走査電子顕微鏡 S-5200
  • 加速電圧:3 kV
  • 観察モード:Mixモード(SE+BSE)
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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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: 「nanoart」に掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
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: 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。