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株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

栄光への脱出

©(株)日立サイエンスシステムズ 黒澤浩一、竹内秀一、武藤篤、多持隆一郎

暗い洞窟をさまよった末に、遂に燦然と輝く光が目に!
さあ、栄光への脱出だ。
この洞窟の開口は、実はAFM(原子間力顕微鏡)に用いられるカンチレバープローブの中心部に、FIB(集束イオン加工観察装置)で加工したSNOM(走査型近接場光学顕微鏡)のレーザ光の出射/入射用開口です。このSNOMは、ナノテクノロジーなど先端技術分野において有用な解析手段として注目されています。

2003年(第59回)日本顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:SNOMプローブのレーザ光入射開口
  • 測定装置:電界放出形走査電子顕微鏡 S-4300
  • 撮影倍率:50,000倍
  • 加速電圧:5 kV

試料ご提供:東京大学 中尾研究室

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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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