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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

Sapporo nano Tower

©(株)日立ハイテクノロジーズ 黒田靖、矢口紀恵、大西毅
©(株)日立ハイテクフィールディング 西元有香

写真は集束イオンビーム(FIB:Focused Ion Beam)加工技術を用いて作製した、世界で最も小さい塔の二次電子像です。
Siウエハからマイクロサンプリング法で高さ10µmの微小片を摘出し、試料回転ホルダーの試料台に固定した後、試料を回転しながら塔の形に加工しました。
もともと半導体デバイスの修復や評価用に開発されたFIB加工技術ですが、マイクロマニピュレーション技術の発達により、このような微細加工も出来るようになりました。

2006年 第16回 国際顕微鏡学会議(IMC16)
写真コンクール 材料部門第1位受賞作品

撮影条件

  • 加工装置:集束イオンビーム加工観察装置 FB-2100
  • 加速電圧:40 kV
  • 測定装置:超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡 S-5500
  • 加速電圧:2 kV
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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は第16回 国際顕微鏡学会議(IMC16)、「写真コンクール」に出展された作品です。
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: 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。