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株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

微の桃源郷

©(株)日立ハイテクノロジーズ 藤澤亜希子、中澤英子、近藤正樹

培養NRK細胞のbasal側細胞膜裏打ち(フリーズエッチングレプリカ膜)のTBR法による再構成結果を擬似カラー表示した画像です。クラスリン被覆小穴やカベオラなどの分布する様子は、まるで桃源郷のようです。

2008年(第64回)日本顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:培養NRK細胞 basal側の細胞膜裏打ち
  • 測定装置:電子顕微鏡 H-7650
  • 加速電圧:120 kV

試料ご提供:名古屋大学エコトピア科学研究所 臼倉治郎様

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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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