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Hitachi

日立高新技术在中国

离子溅射仪 MC1000

采用磁控型电极,最大限度地减轻对样品的损坏。

特点

  • 采用LCD触摸屏,可以更加简便地设定加工条件
  • 可处理较厚或较大的样品(选配件)
  • 记忆功能可存储常用加工条件

规格

项目说明
放电类型 磁控二极管放电型(电场垂直于磁场)
电极组成 反向平行盘(嵌入磁铁)
电压 最大 0.4 kV DC(直流可变)
电流 最大 40 mA DC
喷镀速率 *1(最大)
[条件]
压力:7 Pa
放电电流:40 mA
标靶与样品表面之间的距离:20 mm
Pt 靶(选配件) 15 nm/min
Pt-Pd 靶(选配件) 20 nm/min
Au 靶(选配件) 35 nm/min
Au-Pd 靶(选配件) 25 nm/min
样品尺寸最大直径 φ60 mm
最大高度 20 mm
机械泵 135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2 Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
电源要求 单相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-针插头线缆(3 m)
尺寸宽度 450 mm
长度 391 mm
高度 390 mm
重量 主机:约 25 kg
机械泵:约 28 kg
*1
: 喷镀速率仅供参考
*2
: 主机内不包括靶材。请从选项中选择(铂,铂-钯,金,金-钯)。