試料の前処理や保管を行う際、試料表面に付着したハイドロカーボンを観察前にUV照射により除去し、観察時のコンタミネーション形成を低減するクリーナーです。少ないダメージで試料表面の汚損を除去することが可能なため、ダメージに敏感な試料へも適応可能です。
波長185 nmと254 nmのUV照射光によりチャンバー内残存酸素分子からオゾンおよび活性酸素（原子状酸素）を生成します。試料表面のハイドロカーボン分子と活性酸素が反応し、CO2、H2Oなどの揮発性分子となり、試料表面から剥離します。発生したオゾンと剥離した揮発性分子はオゾン除外装置を含むドライ真空排気系により、安全にチャンバー外に排出されます。
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製造元：株式会社三友製作所
取扱会社：株式会社日立ハイテクフィールディング
電子顕微鏡用の試料作成・保管中に、試料表面にハイドロカーボンが付着し、電子ビーム照射時にコンタミネーションが形成され、高分解能観察や分析の妨げになります。
ZONEII for SEMは、UV光を照射して試料表面に付着したハイドロカーボンを除去、電子顕微鏡での観察時に試料表面に形成されるコンタミネーションを低減することができます。
本体寸法：300 mm(W) × 262 mm(D) × 326 mm(H)
1分～約24時間（1分単位）で設定可能です。
ダイアフラムポンプを搭載、100段階の真空圧設定が可能です。
UV照射時、チャンバー内を真空にすることにより、表面改質および洗浄の効率が上がります。
| 項目 | 内容 |
|---|---|
| 形式 | ZON-2010 |
| UVランプ | 波長： 185 nm、254 nm他（可視光－青、赤外光） |
| 対応試料サイズ | 100 mmφ × 37 mm(H) |
| 処理モード | UVクリーニングモード（レシピ機能搭載） 真空保持モード |
| 真空設定 | 100段階の真空圧で設定可能 |
| 処理時間設定 | 1分～約24時間 |
| 真空ポンプ | ドライ真空排気系 |
| オゾンスクラバー | 触媒式オゾン除害装置内蔵 |
| 本体寸法 | 300 mm(W) × 262 mm(D) × 326 mm(H) |
| 重量 | 約18 kg |
| オプション | 試料高さ調整用スペーサ |
【注意事項】
| 項目 | 内容 | |
|---|---|---|
| 室温 | 15～30°C | |
| 湿度 | ～70%RH（結露のないこと） | |
| 電源 | 電源 | AC100 V（±10%）50/60 Hz |
| 消費電力 | 0.13 kVA | |
| 容量 | 10 A | |
| 形状 | 3Pコンセント | |
| アース接地 | D種接地 | |
| 設置スペース | 650 mm × 650 mm （装置背面は壁から200 mmのスペースを空けてください） |
|
| テーブル耐荷重 | 100 kg以上 | |
[試料] カーボンフィルム上の金蒸着粒子
[クリーニング時間] 4分 × 2回
ZoneII for SEMで処理をせず観察
ZoneII for SEMで処理後に観察
多孔質材料は、孔の中にコンタミネーションの原因となるハイドロカーボンなどを内包しやすく、コンタミネーショによる像障害が発生しやすい試料です。 ZONEII for SEMでのUVクリーニングすることで、ハイドロカーボンが除去され、コンタミネーションによる像障害が改善されます。
[試料]メソポーラスシリカ
[クリーニング時間] 5 分
ZoneII for SEMで処理をせず観察
ZoneII for SEMで処理後に観察
[試料]ガラス基板上の酸化インジウムスズ（ITO）薄膜
[クリーニング時間] 5 分
ZoneII for SEMで処理をせず観察
ZoneII for SEMで処理後に観察
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