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日立ハイテクサイエンス

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電子デバイスに関する分析事例を掲載しています。

電子デバイス アプリケーションブリーフ

製品名をクリックするとその製品によるアプリケーションブリーフにジャンプします。

走査型プローブ顕微鏡(SPM)
SPI No.69垂直磁気異方性を有する高周波軟磁性膜の
高分解能MFM観察
SPI No.50MFM analysis of magnetization process in CoPt dot-array
SPI No.36SPMによる強誘電体薄膜への記録再生
SPI No.32大型ステージユニットSPA500による
ハードディスクの磁気力顕微鏡(MFM)測定
SPI No.31大型ステージユニットSPA500による
GMRヘッドの磁気力顕微鏡(MFM)測定
SPI No.22ダブルコーティング・ビデオテープのMFM観察
SPI No.08Siウェハ上のCOP・異物観察
SPI No.07シリコン単原子ステップの観察
NPX No.25原子間力顕微鏡(AFM)と電子顕微鏡(SEM)の
画像の比較Ⅰ(Nanopics)
NPX No.24液晶配向膜成膜条件の評価(Nanopics)
NPX No.23高性能ポリイミドフィルムの表面処理評価(Nanopics)
NPX No.21Pbフリー半田めっきの表面粗さ(Nanopics)
NPX No.19液晶ディスプレイ製作工程評価(Nanopics)
NPX No.08アルミニウム基盤の研磨処理(Nanopics)
NPX No.07ボンディング不良電極端子めっき表面の形状評価(Nanopics)
NPX No.06液晶パネル用ガラス(Nanopics)
NPX No.05サーマルプリンタヘッドと用紙(Nanopics)
NPX No.04ポリイミドフィルムの表面処理評価(Nanopics)
蛍光X線膜厚計
SFT No.29SFT9500における極薄膜Auめっきの測定事例の紹介
ICP分析
ICP No.39ICP発光分光分析法による固体試料直接分析法
(レーザーアブレーションによる分析)
ICP No.19ICP発光分光分析法によるサマリウム-コバルト
磁性体の分析
ICP-MS No.17SPQ9600/9700のクールプラズマ条件による
微量濃度の測定
集束イオンビーム
SMI No.09ArBIDを用いたフォトレジストの試料作製と観察
SMI No.03最新デバイスのSIM像断面
SMI No.01EガスとAutoBitmapソフトウェアを用いたLSI平坦化加工テクニック
FIB No.06低加速モード加工
FIB No.05高倍率の観察
FIB No.04マルチガスシステムの応用
FIB No.03TEM試料作製