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Hitachi

日立ハイテクマテリアルズ

アニール装置

取扱会社:株式会社 日立ハイテクマテリアルズ

特長

  • 光源に高出力半導体レーザを採用。
  • ラインビームおよびオートフォーカス制御により安定したレーザ照射を実現。
  • パソコンよりレーザ照射条件の設定が可能。
  • 各種動作モードをサポート。
  • 2種類(赤・青)のレーザ波長をラインナップ

用途・向け先

  • 有機・無機材料薄膜のアニュール処理
  • 相変化材料の局所結晶化
  • 薄膜シリコンの穴あけ
  • 薄膜シリコンの結晶化