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2014年11月19日

　株式会社日立ハイテクノロジーズ（執行役社長：久田　眞佐男／以下、日立ハイテク）は、本日、半導体評価装置（以下、評価装置）の開発生産拠点である那珂地区（茨城県ひたちなか市）に、先行的な装置・システム開発の推進を目的とした新ラボ棟「Metrology and Inspection Center 那珂（以下、MIC那珂）」を竣工しました。

　最先端半導体デバイスは、さらなる高性能化を実現する新世代の半導体デバイス開発に向けて、微細化や三次元化、新材料の導入が進められています。検査・計測においてもニーズが多様化しており、評価装置には、さまざまな顧客の要望にあった性能をいち早く実現することが求められています。そのため、評価装置の開発段階から顧客と密接に協業し、顧客ニーズにマッチしていることを確認しながら開発することが重要になっています。

　新たに竣工したMIC那珂では、1階に顧客環境と同レベルの最高クラスのクリーンルームを設置するとともに、サブナノメートル性能の最新鋭の装置開発・評価を行えるシールドルームを設置しました。また2階には、安心して顧客ごとに密接な協業ができるセキュアな環境を準備しました。さらにMIC那珂では、海外の日立ハイテクグループ各社から、装置への24時間アクセス可能なシステムを構築することで、最新装置のスピーディーな評価と開発期間の短縮化を実現します。これらの設備により、装置・システム開発と顧客による性能評価を同時に実施できる開発環境を構築しました。
　今後、評価装置のデモ・操作実習機能の大部分をMIC彦根^*に集約するとともに、最先端のプロセスに対応した評価装置の開発をMIC那珂において推進してまいります。
　日立ハイテクは、MIC那珂の竣工により、最先端技術および評価装置の先行開発を実現することで顧客提供価値を高め、半導体産業のさらなる発展に貢献してまいります。