光焼成機 PulseForge
特長
自由なパルスシーケンス形成
組み合わせによる連続した乾燥と焼成が可能
高均一性の光強度
独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
独自設計ツールSimPulse®
独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能
共通モジュール化
R&Dから迅速な量産への移行可能（R2R対応可）
(3D Micromac: Germany)
仕様
| PulseForge® 1200 | PulseForge® 1300 | PulseForge® 3200 | PulseForge® 3300 | |
|---|---|---|---|---|
| 用途 | R&D | 量産対応 | ||
| 最大照射エネルギー(J/cm²） | ～21 | ～45 | ～21 | ～45 |
| 最高放射光(kW/cm²） | 4.6 | 35 | 4.3 | 35 |
| 最大ランプ電圧(s) | 450 | 950 | 450 | 950 |
| 最大サンプル照射面積(mm) | 300×150 | 無制限 | ||
| 最大送りスピード(meters/min) | 30 | ＞100 | ||
| 単パルス照射面積(mm) | 75×150 | 150×（150-4800） | ||
| パルス照射時間(microseconds) | 25-10,000 | |||
| パルス照射可変(microseconds) | 1 | |||
| 最小パルス照射間隔(microseconds) | 20 | |||
| 最大パルス照射値 | kHz | |||
| 照射光波長(nm) | 200-1500 | |||
* 仕様は予告なく変更になる場合がございますので、予めご了承ください。
