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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

概要図

Kurt J. Lesker Company
共同開発、プロセス駆動型、薄膜技術に最適な先駆的研究者達のパートナー

取扱会社:株式会社 日立ハイテクノロジーズ

特長

PVD機器

  • 熱蒸着, eBeam, マグネトロンスパッター
  • 高真空&超高真空
  • 高性能グローブボックス
  • 複数基板対応のロードロック
  • 基板高温もしくは低温化

ALD機器

  • 熱&プラズマエンハンストALD
  • 超高純度リアクターデザイン
  • 先駆的フォーカス技術(特許認証済)
  • 複数の技法(PVD, ALD, 分析)
  • 低発塵、低メンテナンスな反応炉設計

実績

W/W機器販売数
1,000以上

特許化されたスパッター, 及び,
ALD技術

30年を超える真空システムの
エンジニアリング及び機器製作

世界規模のサービス/営業


Open Frame


Open Frame + Load Lock

次世代型薄膜蒸着システム
W/W導入台数: 400台以上

装置特徴

  • 安全性を考慮した密閉型ラック/チャンバー
  • 高い自由度を有したオープンチャンバー
  • 計測ユニット及びドアは左右どちらにも取り付け可

<チャンバー>
完全モジュール設計により、プロセスに合わせ対応可

<ポンプ>

  • チャンバーに直接接続し、減圧時間を短縮
  • 高真空タイプ、低真空タイプから選択可

<蒸着源>

  • スパッター源、e-beam源、熱源から選択
    (複数選択も可)
  • 様々なOPから選択可

スパッター源
スパッター源

熱源
熱源

e-beam源
e-beam源