独自開発の高出力キセノンランプの照射光を精密制御することで、材料の表面のみを瞬間的に加熱し、乾燥、焼成させる装置です。
【効果】
取扱会社:株式会社 日立ハイテク
組み合わせによる連続した乾燥と焼成が可能
独自ビーム形成技術によりダメージなく乾燥、焼成可能
独自開発のソフトにて事前に処理結果を予見可能
R&Dから迅速な量産への移行可能(R2R対応可)
Full integration 2+ lamps(Muhlbauer: Germany, Global)
9-lamp tool (Japan)
Full integration 4 lamps
(3D Micromac: Germany)
R&D用 【PulseForge®1200/1300】
量産用 【PulseForge®3200/3300】
PulseForge® 1200 | PulseForge® 1300 | PulseForge® 3200 | PulseForge® 3300 | |
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用途 | R&D | 量産対応 | ||
最大照射エネルギー(J/cm²) | ~21 | ~45 | ~21 | ~45 |
最高放射光(kW/cm²) | 4.6 | 35 | 4.3 | 35 |
最大ランプ電圧(s) | 450 | 950 | 450 | 950 |
最大サンプル照射面積(mm) | 300×150 | 無制限 | ||
最大送りスピード(meters/min) | 30 | >100 | ||
単パルス照射面積(mm) | 75×150 | 150×(150-4800) | ||
パルス照射時間(microseconds) | 25-10,000 | |||
パルス照射可変(microseconds) | 1 | |||
最小パルス照射間隔(microseconds) | 20 | |||
最大パルス照射値 | kHz | |||
照射光波長(nm) | 200-1500 |
※仕様は予告なく変更になる場合がございますので、予めご了承ください。