多機能型ユニット AFM5200S ：日立ハイテクノロジーズ

定評のある「フロントワイドオープン機構」「オーバースライドヘッド機構」を筆頭に、試料の交換が容易に行える様々な機構を装備しています。

光ヘッドに「低コヒーレント（光干渉が少ない）光源」を採用することで、高出力時のモードホップノイズや戻り光のノイズ発生を無くし、S/N比を1.5倍向上。ナノオーダーの更なる高分解能観察を可能にしました。

「熱源抑制構造」にすることで、ユニット本体の熱源を徹底して排除。従来の1/10以下のドリフト量を実現し、ナノオーダーの構造解析に欠かせない基本性能を大幅に向上させました。

新方式のアプローチ機能により、探針のソフトランディングを実現。アプローチ時の探針のダメージを最小限に抑えます。

仕様
検出系	光てこ方式
検出系の光源	低コヒーレント型半導体レーザー
分解能	原子分解能
試料サイズ	最大35 mmφ、厚さ10 mm 最大50 mm角、厚さ20 mm^*
スキャナ（走査範囲）	オープンループ XY：20 µm／Z：1.5 µm XY：100 µm／Z：15 µm XY：150 µm／Z：5 µm クローズドループ XY：110 µm／Z：6 µm
光学顕微鏡	ズーム機能付顕微鏡金属顕微鏡
基本機能	AFM、DFM、PM、FFM
機能拡張性^*	SIS、STM、LM-FFM、VE-AFM、Adhesion、Current、SSRM、SNDM、PRM、KFM、EFM、MFM
除振機構	エア供給式パッシブ除振台
試料移動機構	マニュアルステージ XY：±2.5 mm インパクトステージセット^*
対応環境	大気、液中^、湿度^、加熱^*（室温～250℃）