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ナノアート

1995年度作品「MICRO-RAILROAD」

MICRO-RAILROAD
©日立計測エンジニアリング(株) 鈴木猛夫、介川勝、水野剛、山田満彦
©(株)日立製作所 計測器事業部 大高正、鏡味照行
©(株)日立製作所 中央研究所 中山義則

安全輸送のため、新幹線などの軌道幅が厳密に管理されていることはよく知られています。このMICRO-RAILROADは、レーザ干渉露光と(110)シリコン基板を用いた異方性エッチング技術を駆使して作られたもので、ピッチ幅は0.24±0.001µmという高い寸法精度を実現しました。最近、半導体プロセスなど先端技術分野で不可欠の微小寸法基準として、その活用が期待されています。

1995年(第51回)日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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