2000年度作品「幻光」

©（株）日立サイエンスシステムズ　伊藤寛征、中山佳彦、高須久幸

高密度化する記録デバイスの読み込みを行うためのレーザー発生領域（625 nm）の様子をCL像を使って観察することができました。これは次世代へ向けてはばたく我々の希望の光のようです。

2000年（第56回）日本電子顕微鏡学会
写真コンクール　出展作品

撮影条件

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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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: 「nanoart」は（株）日立ハイテクの日本国内における登録商標です。