2001年度作品「Micro-hat」

Micro-hat

©（株）日立サイエンスシステムズ　黒田靖、佐藤高広、川崎清美
©（株）日立製作所　計測器グループ　田中弘之

64M DRAMを割断し、メタル配線を加速電圧200 kVのSEMで観察したもの。
立体的に割断されたメタル配線が周囲のSiO2から浮かび上がり、TiNのリボンをつけたW帽子のように見えます。

2001年（第57回）日本電子顕微鏡学会
写真コンクール　出展作品

撮影条件

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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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: 「nanoart」は（株）日立ハイテクの日本国内における登録商標です。