2008年度作品「京小紋」

京小紋

©（株）日立ハイテク　佐藤高広、今野充、渡部明

H-Nb2O5薄膜サンプルの高分解能透過電子像を擬似カラー表示し、和服の型にトリミングしました。色の部分がNbの原子の配列、白い点がその隙間を示しています。このように、原子の世界は、規則的な幾何学模様を作り出します。これらの模様の配列は、京都の伝統的な着物である京小紋を連想させます。

2008年（第64回）日本顕微鏡学会
写真コンクール　優秀賞受賞作品

撮影条件

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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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: 「nanoart」は（株）日立ハイテクの日本国内における登録商標です。