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ナノアート

2008年度作品「京小紋」

京小紋
©(株)日立ハイテク 佐藤高広、今野充、渡部明

H-Nb2O5薄膜サンプルの高分解能透過電子像を擬似カラー表示し、和服の型にトリミングしました。色の部分がNbの原子の配列、白い点がその隙間を示しています。このように、原子の世界は、規則的な幾何学模様を作り出します。これらの模様の配列は、京都の伝統的な着物である京小紋を連想させます。

2008年(第64回)日本顕微鏡学会
写真コンクール 優秀賞受賞作品

撮影条件

  • 試料:H-Nb2O5
  • 測定装置:透過電子顕微鏡 H-9500
  • 撮影倍率:400,000倍
  • 加速電圧:300 kV

*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

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