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Hitachi

Hitachi High-Technologies Korea Co.,Ltd.

투과전자현미경 H-9500

300 kV로 구현하는 손쉬운 초고분해능

반도체부터 각종 재료까지 미세화 기술이 진보해 나가고 있는 지금, Sub Nano Scale의 고분해능 관찰은 빼놓을 수 없는 요소가 되었습니다.
H-9500은 이 모든 요구를 한 발 앞서 반영하여, 투과전자현미경에서 필요한 고분해능 관찰과 더불어 고기능의 쾌적한 조작성을 추구하였습니다.
종래의 H-9000 시리즈 300 kV 투과전자현미경에, 최신 디지털 기술을 탑재함으로써 초고분해능 Image를 간단하게 실현하여, Sub Nano-order의 세계를 열 것입니다.

특징

쾌적한 조작성

Windows® 지원으로 사용이 간편한 GUI를 채용.
시료 교환 1분, 고압 인가 3분으로 높은 Throughput을 실현.

손쉬운 고분해능 관찰

분해능 0.10 nm (격자 Image), 0.18 nm (입자 Image)를 실현
Drift가 적은 5축 Eucentric Hyper Stage

뛰어난 안정성

H-9000 시리즈를 답습한 10단 가속 전자총을 채용
고전압 저항 케이블을 채용

다채로운 확장 옵션

공용 홀더를 통해 HD 시리즈・FB/NB 시리즈와의 연계 가능
가열・냉각 등 각종 홀더 사용 가능
EMIP 소프트웨어를 통한 고기능 데이터 해석 가능

현장 관찰 가능

가스 도입 기구가 장착된 분체 시료 가열 홀더*1 등을 이용하여 현장 관찰 가능.
(산화・환원 반응과 결정 구조 변화 등)
CCD 카메라로 실시간 Image를 관찰・기록 가능
가스 공급 설비*1에 의한 가스 제어・분석・데이터 기록 등이 가능

*1
:옵션

사양

항목내용
분해능*2 0.10 nm (격자 Image)
0.18 nm (입자 Image)
가속 전압 300 kV, 200 kV*1, 100 kV*1
배율ZOOM 1,000~1,500,000배
SA 4,000~500,000배
LOW MAG 200~500배
전자총Filament LaB6직류가열방식
Filament 교환 자동 Gun Lift 기구
고압 케이블 저항 케이블
조사계렌즈 구성 4단 렌즈 방식
가동 조리개 기구 4단 전환 Click Stop 방식
결상계렌즈 구성 5단 렌즈 방식
대물렌즈 가동 조리개 4단 전환 Click Stop 방식
제한시야 가동 조리개 4단 전환 Click Stop 방식
전자회절카메라 길이 250~3,000 mm
시료실시료 Stage Eucentric 5축 Hyper Stage
시료 크기 3 mmΦ
시료 위치 표시 자동 드라이브 기능・시료 이동 Trace 기능
시료 경사각 α: ±15°이상, β: ±15°이상
시료 오염 방지 렌즈 주변 포위 방식
Baking 기능 Mild Baking 기능 내장
관찰실형광판 주 형광판: 110 mm
쌍안 확대경 배율: 7.5배
카메라실시야 전환 1, 2시야 (Full/Half) 수시 전환
필름 장전 수 25매/매거진×2세트
제어계/GUI  OS: Windows®
모니터 표시 19형 모니터
기능 데이터베이스, 길이 측정 기능, 화상 처리
디지털 CCD 카메라*3카메라 Coupling 렌즈 Coupling
유효 화소 수 1,024 × 1,024 픽셀
A/D 분해능 12 bit
진공배기계전자총부 이온 펌프 60 L/s
경체부 터보 분자 펌프 260 L/s
관찰실, 카메라실 유확산펌프 280 L/s
유회전펌프 135 L/min 3식
크기 본체: 2,140 (W) × 1,610 (D) × 2,680 (H) (mm)
DC 전원: 535 (W) × 920 (D) × 1,820 (H) (mm)
렌즈 전원: 535 (W) × 930 (D) × 1,500 (H) (mm)
HV 탱크: 470 (W) × 650 (D) × 730 (H) (mm)
HV 탱크: 235 (W) × 526 (D) × 310 (H) (mm) × 3대
Air Compressor: (옵션) 560 (W) × 280 (D) × 530 (H) (mm)
*
:상기 내용은 가속전압 300 kV시의 사양입니다.
*1
:옵션
*2
:배율 보증은 옵션입니다
*3
:1 k × 1 k 디지털 CCD 카메라 옵션 추가할 경우의 사양입니다

설치 조건

항목내용
실온 15~25°C
습도 40~60%RH
전원 단상 AC200 V 100 A
접지 D종 접지 (100Ω 이하)
냉각수 29,300 kJ/h 이상의 냉각수 순환 장치 (옵션)를 준비해 주십시오

설치 예시

투과전자현미경 H-9500 사양

관찰 사례

재료

Si3N4 고분해능 TEM Image

Si3N4 고분해능 TEM Image
Accelerating voltage : 300 kV

TiO2 가스 도입시료 가열 in situ TEM 관찰

TiO2가스 도입시료 가열 in situ TEM 관찰
Temperature : 380°C
Atmosphere : Air@6 Pa on specimen

Pt/ graphite carbon 고분해능 TEM Image

Pt/ graphite carbon 고분해능 TEM Image
Accelerating voltage : 100 kV

반도체

Si 디바이스 고분해능 TEM Image

Si 디바이스 고분해능 TEM Image

Applications(Global)

Hitachi TEM Application Data

Technical magazine
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nanoart(Global)

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