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Hitachi

Hitachi High-Technologies Korea Co.,Ltd.

Ion Sputter MC1000

Magnetron 전극 채용으로 시료를 Mild Coating

특징

  • LCD 터치 패널을 통하여 간단하게 전류・시간 등의 조건 설정이 가능
  • 설정한 조건의 저장・불러오기가 가능한 Recipe 기능을 표준 장착
  • 옵션 장착을 통하여 두꺼운 시료나 대형 시료도 대응 가능

사양

항목내용
방전방식 다이오드 방전 Magnetron형 (전장・자기장 직교형)
전극 형상 대향평행원판 (Magnet 삽입)
전압 최고 전압 DC 0.4 kV (위상 제어에 따라 변경 가능)
전류 최대 전류 DC 40 mA (설정 범위: 5~40 mA)
Coating Rate
(참고치*1) 최대치:
<조건>
진공도: 7 Pa
방전 전류: 40 mA
시료 간 거리: 20 mm
Pt Target 15 nm/min
Pt-Pd Target 20 nm/min
Au Target 35 nm/min
Au-Pd Target 25 nm/min
Coating 시간 5~300초
시료 크기최대 시료 지름 Φ60 mm
최대 시료 높이 20 mm
배기 펌프 Rotary Pump 135/162 L/min (50/60 Hz)
Target (Φ63 mm)(별매품) Pt, Pt-Pd(8:2), Au, Au-Pd(6:4)
소요 전원 단상AC 100 V (±10%) 15 A (50/60 Hz)
외형 치수 (본체)
옵션 비장착 시
450 mm
깊이 391 mm
높이 390 mm
질량 본체: 약 25 kg, Rotary Pump: 약 28 kg
Carbon Coating Unit: 약 26 kg
*1
: Coating Rate는 참고치이며, 조건에 따라 변동될 수 있습니다.

표준 내역

항목내용
본체 1
Rotary Pump 1
표준 부속품 1세트
취급설명서 1

설치 조건

항목내용
실온 15~25°C
온도 45~85% 이하 (결로 생기지 않을 것)
전원 단상 AC 100 V (±10%), 50/60 Hz, 1.5 kVA
D종 접지, 접지 저항 100Ω 이하 부속 전용 개폐기
(누전검지기 (중감도 지연형 부속) 가 배치된 3P 콘센트)

고객 준비품

항목내용
Ar 가스 압력 0.03~0.05 Mpa
Ar 가스 주입 배관*2 1/4인치 SUS 배관 (1/4 Swagelok 지원), Regulator
산소농도계*3 산소 농도 19% 이상 확인 가능한 것
권장 테이블 550(W) × 550(D) × 700(H)(mm) 이상, 내하중80 kg 이상
*2
: Ar 가스 공급 설비 (Ar 가스 봄베) 와 장비 사이를 연결하는 배관입니다.
공급 설비(Ar 가스 봄베)용의 조압기와 함께 준비해 주십시오.
*3
: 아르곤 가스는 질식성이 있으므로 설치 장소에는 산소 농도계 및 환기 설비를 준비해 주십시오.

특별 부속품 (옵션)

항목내용
막 두께 및 온도 조절 기능*4 막 두께 설정 범위: 1~30 nm
온도 설정 범위: 실온~(실온-25)°C, 안정도±1°C 이내
대형 Chamber*5 최대 탑재 크기: φ150 mm, 최대 시료 높이: 20 mm
45 mm Spacer*6 최대 시료 크기: Φ60 mm, 최대 시료 높이: 45 mm
Carbon Coating Unit 증착원: Carbon Rod 가열 절단
*4
: 수정 발진기의 질량 막 두께입니다. 후 장착 불가. 대형 Chamber 미지원
*5
: 후 장착 불가
*6
: 표준 Chamber 전용

nanoart(Global)

Photo collections of beauty of metals, minerals, organisms etc. reproduced by the electron microscope and finished more beautifully by computer graphic technology.

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