| 1939 | 学術振興会第37小委員会（現：日本顕微鏡学会）発足 |
|---|---|
| 1941 | 日立研究所でTEM試作1号機「HU-1」により写真撮影に成功 |
| 1942 | 国産初の商用TEM「HU-2＊1」を名古屋帝国大学に納入 |
| 1948 | TEM「HU-4」を北海道大学等に納入 |
| 1952 | 日製産業がTEMの国内販売を開始 |
| 1956 | TEM「HU-9」（輸出1号機）をUCLAに納入 |
| 1957 | ニューヨーク見本市に「HU-10」「HS-5」出展 |
| 1958 | ブリュッセル万国博にて永久磁石を使用したTEM「HS-6」「HM-3」がグランプリ獲得 |
| 1961 | 那珂工場設立 国産初の商用EPMA＊2 「XMA-4」納入 |
| 1964 | 中央研究所でSEMの研究を開始 |
| 1966 | TEM 累計1,000台達成 |
| 1969 | 日立初の商用SEM「HSM-2」発売 |
| 1970 | Albert V.Crewe博士よりFE技術導入 |
| 1971 | 最初のFE-SEM試作機「HFS-1」開発 |
| 1972 | 国産初の商用FE-SEM 「HFS-2」発売 2MV超高圧TEMを大阪大学に納入 |
| 1976 | 「電界放射形高分解能電子顕微鏡の開発」で大河内記念技術賞を受賞 |
| 1978 | 中央研究所が80kV FE-TEMを開発、0.062nmの格子分解能の達成と磁力線の観察に成功 |
| 1982 | コンピューター制御のFE-SEM「S-800」発売 |
| 1983 | 100kV FE-TEM「H-600FE」を大阪大学に納入 |
| 1984 | 半導体デバイス用測長SEM「S-6000」発売 |
| 1985 | 超高分解能インレンズFE-SEM「UHS-T1」を鳥取大学に納入 |
| 1986 | インレンズFE-SEM「S-900」発売 中央研究所が1982年の実験結果を裏付け「アハラノフ・ボーム効果」を完全実証 |
| 1988 | 半導体デバイス用外観寸法評価装置「S-7000」発売 |
| 1989 | 中央研究所が350kV FE-TEMを開発、0.055nmの格子分解能の達成と磁束量子の動的観察に成功 低加速超高分解能インレンズFE-SEM「S-900LV」を日本女子大学に納入 FE-SEM 累計1,000台達成 200kV FE-TEM「HF-2000」発売 |
|---|---|
| 1991 | 日立初の低真空SEM「S-2250N」発売 |
| 1992 | セミインレンズFE-SEM「S-4500」発売 |
| 1994 | 測長SEM「S-8800」発売 |
| 1995 | 世界最高電圧3MV超高圧TEMを大阪大学に納入 200kV FE-SEM「ミラクルアイ HM-2000」が米国R&Dマガジン社よりR&D100受賞 |
| 1996 | セミインレンズFE-SEM「S-4700」発売 測長SEM 累計1,000台達成 |
| 1998 | 超薄膜評価装置「HD-2000」発売 |
| 2000 | 基礎研究所が1MV超高圧FE-TEMを開発、0.0498nmの格子分解能の達成と高温超電導体の観察に成功 測長SEM「S-9300」発売 |
| 2001 | ディフェクトレビューSEM「RS-3000」発売 |
| 2002 | セミインレンズFE-SEM「S-4800」発売 |
| 2005 | 卓上顕微鏡「Miniscope TM-1000」発売 |
| 2006 | 測長SEM「CG4000」発売 球面収差補正器を搭載したFE-STEM＊3 「HD-2700」発売 300kV FE-TEM「HF-3300」発売 |
| 2008 | 「半導体超微細パターン計測用測長SEMの開発と実用化」で大河内記念生産賞を受賞 セミインレンズFE-SEM「SU8000」発売 |
| 2010 | ディフェクトレビューSEM「RS6000」発売 |
| 2011 | インレンズFE-SEM「SU9000」発売 測長SEM「CG5000」発売 測長SEM 累計4,000台、FE-SEM 累計5,000台達成 |
| 2012 | 「電界放出形電子顕微鏡の実用化」がIEEE マイルストーン認定 |
＊1 「HU-2」は国立科学博物館の「重要科学技術史資料（未来技術遺産）」へ登録、電気学会より「でんきの礎」受賞、名古屋大学博物館で展示
＊2 EPMA：Electron Probe Micro Analyzer（ 電子線マイクロアナライザー）
＊3 FE-STEM：Field Emission-Scanning Transmission Electron Microscope（ 電界放出形走査透過電子顕微鏡）
