ページの本文へ

Hitachi

日立ハイテクフィールディング

半導体プロセス関連の、分析・評価の受託業務をご提供します。 フィールドにおける豊富な経験をベースに、半導体の最先端ラインで培った高度な分析・評価業務をご提供します。

取扱会社:株式会社 日立ハイテクフィールディング

対象

最先端量産ラインでの経験をベースに、半導体プロセス関連の分析・評価を得意としています。

対象分析感度特長

ウェーハ

E8~E10
atoms/cm2
  • 表面、膜中、片面、スポット等の高感度分析が可能
  • 袋抽出によるイオン性不純物の高感度分析
0.01~1
ng/cm2
  • 昇温脱ガス装置を用いた有機汚染分析が可能

クリーンルーム・装置内雰囲気

0.1~10
ng/m3≒ppt
  • インピンジャ法による金属・イオン性不純物分析
  • 吸着管法による有機分析
  • 異物捕集法による異物の元素分析

建屋材料、装置構成部材

ppt~ppm
  • 材料からの有機、無機成分のアウトガス分析
  • 使用条件い近い環境での擬似実機評価が可能

薬液、純水

ppt~ppb
  • 電子材料(有機、無機薬品)の不純物分析
  • 純水の有機・無機不純物の高感度分析

固体材料

ppb~ppm
  • 石英やSiC中の金属不純物分析

受託内容に関しましては、秘密厳守で対応いたします(ご希望により、秘密保持契約を締結させていただきます)。分析・評価について、お気軽にご相談・ご依頼ください。

分析事例

半導体プロセスでの分析事例

最先端量産ラインでの経験をベースに、半導体プロセス関連の分析・評価を得意としています。

工程、装置分析項目分析装置
酸化、インプラ、成膜拡散装置
イオン注入装置
ウェーハ表面、膜中金属不純物分析 VPD-ICPMS
ウェーハ表面有機物分析 TDS-GCMS
拡散装置内雰囲気分析(イオン性、有機) ICG,ICPMS,GCMS
ケミカルフィルタの除去性能評価(イオン性、有機) ICG,ICPMS,GCMS
CVD装置 ウェーハ付着異物成分分析 XMA
ウェーハ表面、膜中金属不純物分析 TXRF,VPD-ICPMS
拡散装置内雰囲気分析(イオン性、有機) ICG,ICPMS,GCMS
リソグラフィーEB描画装置
スキャナー
ステッパ
装置内雰囲気分析(イオン性、有機) ICG,GCMS
ウェーハ不純物分析 TXRF,VPD-ICPMS
エッチング
アッシング
プラズマエッシャー
プラズマアッシャー
オゾンアッシャー
ウェーハ付着異物成分分析 XMA
ウェーハ表面、膜中金属不純物分析 TXRF,VPD-ICPMS
ウェーハ表面有機物分析 TDS-GCMS
計測側長SEM
膜厚計
ウェーハ表面有機物分析 TDS-GCMS
装置内雰囲気分析(イオン性、有機) ICG,GCMS
共通 装置内発塵異物の成分分析 XMA、異物アナライザ
装置部品からのアウトガス分析 GCMS、ICG

用語説明

XMA:X線分析装置 TXRF:全反射蛍光X線分析装置 ICG:イオンクロマトグラフ
GCMS:ガスクロマト質量分析装置 TDS:昇温脱ガス分析装置
VPD:気相分解液滴回収前処理装置 ICPMS:プラズマ発光質量分析装置

分析例のご紹介

ウェーハの無機・有機分析

クリーンルーム装置内雰囲気分析

建屋材料、装置構成部材分析

薬液、純水、固体材料の不純物分析

金属不純物評価法

*1
半導体以外の分野にも幅広く応用できる分析方法です。

ラインアップ

主要分析・測定器のラインアップ

クリーンルーム内に各装置とも複数台保有し、最適の状態を常に維持しています。
特に、ICP-MS、TXRF、ZAA、ICG、GC-MSの分析・測定は最も得意としています。

  • ICP質量分析装置(ICP-MS)
  • 全反射蛍光X線分析装置(TXRF)
  • 偏向ゼーマン原子吸光光度計(ZAA)
  • イオンクロマトグラフ(ICG)
  • ガスクロマトグラフ質量分析装置(GC-MS)
  • P&T-ガスクロマトグラフ(P&T-GC)
  • 顕微蛍光分光光度計(MFS)
  • フーリエ変換型赤外分光光度計(FT-IR)
  • 大気圧イオン化質量分析装置(API-MS)
  • 昇温脱ガス装置(TDS)

ご相談・お問い合わせ先

製品・サービスについてのご相談・お問い合わせは、サポート情報をご覧ください。