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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

2000年12月6日

日製産業株式会社 社長 樋口 紀昭

日製産業とASML社は、このほど、国内半導体メーカーから、ASML社製「PAS5500/750E」KrFスキャン露光装置、および「PAS5500/400C」I線スキャン露光装置を受注、日本市場への参入を果たします。同装置は、2000年12月に出荷を開始し、ロジックデバイスやメモリーデバイスの量産工場で使用されます。

今回受注した「PAS5500/750E」は、130nmデザインルールICの量産に適した最初のKrF(波長:248nm)露光装置。最大NA:0.7のDUVレンズを採用し、業界最大のσ:0.88を可能にし、重ね合わせ精度30nm以下、業界最高水準である200mmウェハー毎時120枚の処理能力を有しています。また、「PAS5500/400C」は、高速I線スキャン露光装置で、200mmウエハー毎時114枚の処理能力を有しています。さらに、280nmまでの解像度を誇り、ASML社のKrFスキャナーと効率的なミックス&マッチを実現し、コスト効率の高い量産ラインの構築に貢献します。

日製産業は、96年はじめに、ASML社の日本総代理店として契約を締結して以来、日本国内で広く営業活動を展開すると共に、平行してフィールド・サポート体制の整備に取り組んできました。今回の受注により、再度、露光装置市場に参入することとなりますが、これは当社の半導体装置事業にとって、これまでエッチング装置や測長SEMなど微細加工工程向け装置を主力としてきた事業構成に、ソリューション・ビジネスの観点から、一層の相乗効果が期待できます。

今後とも、営業および技術スタッフの強化と、日立計測器サービスのサポートエンジニア体制を強化し、ASML社製露光装置のさらなる拡販を図り、中期経営計画「NS2002」の達成に向けて取り組んでまいります。

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