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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

ナノアート

Micro-hat

©(株)日立サイエンスシステムズ 黒田靖、佐藤高広、川崎清美
©(株)日立製作所 計測器グループ 田中弘之

64M DRAMを割断し、メタル配線を加速電圧200 kVのSEMで観察したもの。
立体的に割断されたメタル配線が周囲のSiO2から浮かび上がり、TiNのリボンをつけたW帽子のように見えます。

2001年(第57回)日本電子顕微鏡学会
写真コンクール 出展作品

撮影条件

  • 試料:64M DRAM
  • 測定装置:超薄膜評価装置 HD-2000
  • 撮影倍率:100,000倍
  • 加速電圧:200 kV
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: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。
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: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。
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: 「nanoart」に掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。
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: 「nanoart」は(株)日立ハイテクノロジーズの日本国内における登録商標です。