ページの本文へ

Hitachi

電子顕微鏡・医用機器・ライフサイエンス製品日立ハイテクノロジーズ

高性能集束イオンビーム装置 MI4050

新型光学系搭載により、世界最高水準のSIM像分解能・大電流対応による加工スピードの向上・低加速電圧観察時の分解能向上によるさらに高品位なTEM試料作製を実現した、高性能集束イオンビーム(FIB)装置です。
断面加工観察、高品位TEM試料作製、回路修正、ベクタースキャン加工、ミクロン~ナノスケールの微細パターニングやナノ金型加工、デポジションによる3次元構造物の作製など、多種多様なサンプルとアプリケーションを実現します。

価格:お問い合わせください

取扱会社:株式会社 日立ハイテクノロジーズ

    特長

    最大プローブ電流90nAにより加工の高速化と大面積加工を実現

    ワイヤーボンディングの断面加工
    (加工サイズ 幅:95µm 深さ:55µm、 加工時間 20min)

    極低加速電圧(0.5kV~)加工および低加速電圧時の二次電子像分解能向上により、更なる低ダメージTEM試料作製が可能

    *
    1kV以下はオプション

    二次電子像分解能4nm@30kVによる高分解能SIM像観察が可能


    正常箇所


    折り曲げ箇所

    アルミ缶の断面SIM像

    高精度5軸電動メカニカルユーセントリックステージ採用

    ステージ移動(含むチルト)を伴う複数箇所の多様な加工が自動運転で可能です。

    優れた操作性と豊富な加工モード

    • 断面作製プログラム加工
    • TEM/STEM試料プログラム加工
    • 連続自動加工
    • 連続TEM試料自動仕上げ加工ソフトウェア
    • ビットマップ加工
    • ベクタースキャン加工
    • 3Dナノ精度構造物作製 その他


    空中ナノ配線の作製
    試料提供: 兵庫県立大学 松井真二様

    SIM像の3D再構築解析

    等間隔のスライス断面加工と観察を繰り返し、複数枚の断面SIM像を取得し3D再構築することが可能です。複合粒子の分散状態や空孔などの3次元情報を可視化する場合などに有効です。


    半導体封止材中のフィラー分散解析例

    マルチガス供給システム(MGS-II)を用いた回路修正

    保護膜材料、配線材料、絶縁膜、増速エッチングなどさまざまな用途に合わせて、複数のガスを照射できるシステムです。

    • タングステンデポジションガス
    • プラチナデポジションガス
    • 絶縁膜生成用デポジションガス
    • 弗化キセノンエッチングガス
    • 有機系エッチングガス
    • カーボンデポジションガス


    XeF2ガスを用いたハイアスペクトホール加工
    およびタングステンデポジションによるパッド出し

    豊富な座標リンケージ機能

    日立ハイテクサイエンス独自の豊富な座標リンケージ機能により、正確な加工位置決定と大幅時間短縮が図れます。

    • 光学顕微鏡像とSIM像のリンケージ
      ダブルカーソル機能
      日本特許第4634134号 米国特許第7595488号
    • 欠陥検査装置との座標リンケージ
      割断されたウエーハやチップでも欠陥検査装置との座標リンケージが可能です。
    • CADナビゲーションシステムとのリンケージ

    仕様

    項目内容
    試料サイズ 50mm×50mm×12mm(t)以下
    試料ステージ 5軸電動ユーセントリックステージ
    加速電圧 1~30kV (0.5kV~ オプション)
    (0.5~1.0kV : 0.1kVステップで変更可能)
    (1.0~2.0kV : 0.2kVステップで変更可能)
    二次電子観察像分解能 4nm@30kV
    最大プローブ電流 90nA
    最大プローブ電流密度 50A/cm2

    特別付属品(オプション)

    • 4chマルチガス供給システムII
    • 連続自動加工ソフトウェア
    • TEM試料自動加工ソフトウェア
    • マニピュレータ顕微鏡 他
    *
    :その他MIシリーズの豊富なオプションを選択できます。

    トピックス

    Scientific Instrument NEWS SI NEWSとは

    ・技術機関誌 SI NEWSの関連記事のご案内
    1958年の創刊以来、SI NEWS(エスアイニュース)は、弊社製品を使用した社内外の研究論文、アプリケーションおよび新製品情報を公開しています。
    高性能集束イオンビーム装置 MI4050の記事のご案内です。