跳至正文

Hitachi

日立高新技术在中国

查找更多产品

公司简介

公司名称 日本精密陶瓷株式会社
位置 宮城县仙台市
成立 1984年4月
资本金 3亿日元
净销售额 88亿日元
员工人数 460人

日本精密陶瓷株式会社
官方网站

公司特点

材料

  • 自制材料
    - 氧化铝(99.9%,99.6%),氧化锆
  • 外包材料
    - 氮化铝(170/200/230W/m/K)、石英、黑色氧化铝

技术

  • 高精度走线(L/S=20µm/15µm)
  • 侧图案
  • 薄膜寄存器
  • 薄膜寄存器
  • Via (铜填充, 通孔 , 半孔)

产品

  • EML, PD, MPD载体
  • 射频桥/射频发射器
  • 光学长凳/板

新材料

氮化硅=正在开发中=

  • 热膨胀系数
    - 2.5 x 10-6/K (RT ~400℃)
  • 弯曲强度
    - 700 MPa
  • 热导率
    - 90 W/m・K
  • 断裂韧性
    - 6 MPa・m 1/2

开发技术

将图案化到步进平面

  • 优势
    - 通过不包括联合流程降低成本
    - 简单的设计是可能的

开发产品

用于大功率激光器的厚铜热沉(开发产品)

  • 导体材料:
    - Ti(0.07µm)/Pd(0.12µm)/Cu(75µm)/Ni(0.5µm)/Au(1.5µm MIN)

分立半导体的特性因模块内部产生的热量而减弱,
但 AlN 和 Cu 的组合提高了散热性能,并延长了半导体激光器的使用寿命。

高介电基板/单板电容器

高介电基板/单板电容器

查找更多产品