小型イオンビームミリング装置
特長
- エッチング高レートと低レート制御が可能
- 自転＋傾斜するウェーハホルダー
- 豊富なチャック方式を選択可能
- コンパクトなフットプリント
- 終点検知システム装備（ロードロック有にオプション適用）
主な用途
- エレクトロニクスデバイス、MEMS製造用、微細加工研究、開発、試作、小量産用途など
- 小型立体個体物へのイオン照射など
装置評価
お客さまの用途に合わせたサンプル処理を初回無償で提供します。
ウェーハサイズ、処理枚数などについては当社までお問い合わせください。
仕様
| 型式 | IM-150 | IM-200 | IM-250 |
|---|---|---|---|
| イオン源サイズ | Φ150 | Φ200 | Φ250 |
| イオン源電圧 | 300～1000V | ||
| 電流密度 | ～1mA/cm2 | ||
| 対象基板 | Φ4インチ×1 | Φ5インチ×1 | Φ6インチ×1 |
| ホルダー動作 | 自転・傾斜 | ||
| ホルダー冷却 | 水冷／ガス冷 | ||
| ウェーハ交換 | 手動 | ||
ロードロック付も可能です。
