편광 제만 원자흡광광도계 ZA4300
Flame Type
HITACHI 원자흡광광도계는 새 시대로
영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법과 듀얼 검지 방식을 채용해 정밀도 높은 백그라운드 보정과 안정적인 베이스 라인을 제공합니다. ZA4300은 프레임 전용기로 Hallow Cathode Lampe를 점등 직후부터 안정적인 측정을 할 수 있어 빠르게 측정할 수 있습니다. 옵션인 수소화물 발생 부속장치에서도 제만 보정을 할 수 있으며, As나 Se의 수 µg/L 오더 측정에서도 안정적인 분석을 할 수 있습니다.
특징
고감도와 신뢰성이 높은 측정
ZA4300은 백그라운드 보정에 영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법을 사용하였으며, 검출기를 2개 탑재(듀얼 검출기 방식)하여 백그라운드를 보정하는 신호를 동시에 측정합니다. Hallow Cathode Lamp 점등 직후에도 안정적이고 노이즈가 적은 베이스 라인을 제공하고, 고감도이며 신뢰성이 높은 분석을 할 수 있습니다.
※ ZA4000 시리즈는 전 기종 모두 영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법과 듀얼 검출기 방식을 사용
음성 안내 지원
장치에서 음성으로 얻을 수 있는 흡광도 정보부터 시료 도입의 타이밍까지 알려줍니다. 또 오토 스타트 기능을 이용하면 일정 흡광도를 얻을 수 있는 시료에서는 장치가 측정 개시의 타이밍을 판단해, 자동으로 측정을 개시합니다.
※ 프레임기(래피드 시퀀셜 포함)에 표준 사양
전면부 스위치에 의한 조작성 향상
장치 전면에 [측정], [오토 제로] 버튼이 있어 PC 조작없이 측정이 가능합니다.
최소한의 동작만 필요로 하기 때문에 시료 오류나 시료를 쏟을 위험을 줄일 수 있습니다.
※ 프레임기(래피드 시퀀셜 포함)에 표준 사양
분석 예
니켈 도금 안의 구리 분석
근접 파장을 흡수하는 Ni가 많이 함유된 도금액 속의 구리의 분석에서도 편광 제만 보정법은 높은 정밀도의 측정을 할 수 있습니다.
배수 안의 납 분석
안정적인 베이스라인을 제공하는 편광 제만 보정법은 저농도의 납 분석에서도 고감도로 측정할 수 있습니다.
사양
| ZA4000 | ZA4800 | ZA4300 | ZA4700 | |
|---|---|---|---|---|
|
Analytical method |
Flame / Graphite Furnace |
Flame (Rapid sequential) |
Flame |
Graphite Furnace |
| Measurement mode | Atomic absorption and Emission | |||
| Optics | Double-beam method (Polarized Zeeman method) | |||
| Background correction | Polarized Zeeman method Emission : Offset using close wavelengths |
Polarized Zeeman method | ||
| Number of lamps |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 4Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
