편광 제만 원자흡광광도계 ZA4800
Rapid Sequential Flame Type
HITACHI 원자흡광광도계는 새 시대로
영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법과 듀얼 검출기 방식을 채용해 정밀도 높은 백그라운드 보정과 안정적인 베이스 라인을 제공합니다. ZA4800은 새로운 기술인 래피드 시퀀셜 방식을 사용하여 여러 원소를 연속 측정할 수 있습니다. 기존 기술과 신기술의 융합으로 장치 기동에서 측정 종료까지의 시간을 대폭 단축할 수 있습니다.
많은 원소를 측정하는 데 있어 측정 시간을 단축하고, 러닝 비용을 줄이고자 하는 요구에 부응할 수 있는 장치입니다.
특징
신속한 측정
기존 편광지만 보정법과 새롭게 개발한 회절 격자 구동기구를 조합하여 HITACHI 독자적인 복수원소 연속 측정이 가능하게 되었습니다. Hallow Cathode Lamp 4개를 동시 점등하여 최대 12원소를 연속하여 측정할 수 있습니다. 동일한 시료에서 여러 원소를 프레임법으로 측정할 경우, 보다 빠른 측정을 할 수 있습니다.
편광 제만 보정법을 통한 안정적인 베이스라인
편광 제만 보정법은 Hallow Cathode Lamp 점등 직후부터 베이스라인이 안정되기 때문에 측정 개시까지의 준비 시간을 대폭 단축시킵니다.
이에 더하여 연속 측정 기능 추가로 HITACHI 독자적인 분석의 고속화가 가능하게 되었습니다.
측정자의 부담 경감
한번의 시료 주입으로 여러 원소를 측정할 수 있는 래피드 시퀀셜 방식은 시료 교체 빈도를 줄일 수 있습니다. 예를 들어 6원소, 20개 시료를 측정할 경우에 통상적으로는 120회의 시료 교체가 필요하지만 래피드 시퀀셜 방식에서는 20회로 완료됩니다.
분석 예
6원소의 연속 측정
래피드 시퀀셜 프레임에서 6원소를 연속 측정한 예입니다. 복합 램프를 병용하여 6원소의 램프를 점등하였으며, 시료마다 파장을 전환하여 측정하였습니다. 편광 지만만의 베이스라인 안정성에 연속측정을 통해 분석 처리량도 향상되었습니다.
그리고 시료의 교환 빈도도 줄어서 측정자의 부담을 줄였습니다.
사양
| ZA4000 | ZA4800 | ZA4300 | ZA4700 | |
|---|---|---|---|---|
|
Analytical method |
Flame / Graphite Furnace |
Flame (Rapid sequential) |
Flame |
Graphite Furnace |
| Measurement mode | Atomic absorption and Emission | |||
| Optics | Double-beam method (Polarized Zeeman method) | |||
| Background correction | Polarized Zeeman method Emission : Offset using close wavelengths |
Polarized Zeeman method | ||
| Number of lamps |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 4Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
