편광 제만 원자흡광광도계 ZA4700
Graphite Furnace type
HITACHI 원자흡광광도계는 새 시대로
영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법과 듀얼 검출기 방식을 채용해 정밀도가 높은 백그라운드 보정과 안정된 베이스 라인을 제공합니다. ZA4700은 흑연로 전용기로 측정 시 시료의 건조, 회화, 원자화, 클린, 냉각 모든 공정에서 백그라운드를 확인할 수 있습니다. 복잡한 매트릭스 시료의 측정 조건을 작성하는 데 중요한 정보를 제공합니다.
특징
전 가열 공정의 백그라운드 모니터
영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법으로 흑연 분석의 측정 조건을 검토하는데 있어서 중요한 건조 공정, 회화 공정에서도 백그라운드 보정을 실시합니다. 이를 이용한 시료의 비산을 자동 검지하는 기능도 탑재되어 있습니다.
미량 분석을 위한 장치의 오염 진단 기능
원자화부나 오토 샘플러 노즐의 오염을 확인하는 시퀀스를 자동화함으로써 초보자도 장치의 오염을 재빨리 확인할 수 있습니다.
본체 내장형 오토 샘플러를 통한 유지 보수성 향상
오토 샘플러를 본체에 내장하여 레이아웃이 평탄해져 큐벳의 교환 등의 유지 보수 작업에 오토 샘플러가 방해가 되지 않습니다.
분석 예
회화 시의 측정 원소 비산 확인
영구 자석을 이용한 편광 제만 보정법은 건조 공정, 회화 공정의 백그라운드 모니터를 실시합니다.
마그네슘의 측정에서 회화 온도가 높은 경우에 회화 과정에서 마그네슘의 비산을 확인할 수 있었습니다(왼쪽 그림).
회화 온도를 낮춤으로써 비산의 신호는 없어지고 재현성이 좋은 신호를 얻을 수 있습니다(오른쪽 그림).
사양
| ZA4000 | ZA4800 | ZA4300 | ZA4700 | |
|---|---|---|---|---|
|
Analytical method |
Flame / Graphite Furnace |
Flame (Rapid sequential) |
Flame |
Graphite Furnace |
| Measurement mode | Atomic absorption and Emission | |||
| Optics | Double-beam method (Polarized Zeeman method) | |||
| Background correction | Polarized Zeeman method Emission : Offset using close wavelengths |
Polarized Zeeman method | ||
| Number of lamps |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 4Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
8 Lamps (turret), 2Lamps simultaneous lightning |
