2000年12月27日
日製産業株式会社
常務取締役 中野 和助
日製産業は、セイコーエプソン社からASML社製「PAS5500／750E」KrFスキャン露光装置、および「PAS5500／400C」I線スキャン露光装置の第一期分を受注し、12月12日に第一号機を納入しました。同装置は、ロジックデバイスやメモリーデバイスの量産工場で使用されます。引き続き、第二期分および将来のR&D向け装置についても商談を進めているところであります。
今回受注した「PAS5500／750E」は、130nmデザインルールICの量産に適した最初のKrF（波長：248nm）露光装置です。最大NA： 0.7のDUVレンズを採用し、業界最大のσ：0.88を可能にし、重ね合わせ精度30nm以下、業界最高水準である200mmウェハー毎時120枚の処理能力を有しています。また、「PAS5500／400C」は、高速 Ｉ線スキャン露光装置で、200mmウエハー毎時114枚の処理能力を有しています。さらに、280nmまでの解像度を誇り、ASML社のKrFスキャナーと効率的なミックス＆マッチを実現し、コスト効率の高い量産ラインの構築に貢献します。
日製産業は、96年はじめに、ASML社の日本総代理店として契約を締結して以来、日本国内で広く営業活動を展開すると共に、平行してフィールド・サポート体制の整備に取り組んできました。今回のセイコーエプソン社からの受注に加えて、今月に入りさらにもう一社からKrFスキャン露光装置を受注することができました。これらの受注を契機として、現在数社から入手しております引合を成約に結び付けるべく積極的に取り組むとともに、当社の関連会社である日立計測器サービス（株）によるサービス体制の充実とデモ機能の整備を進めてまいります。そして、近い将来には日本市場でのシェアをASML社の世界でのシェア40％と同様のレベルまで高めていくことを当面の目標にしてまいります。
今後とも、営業および技術スタッフの強化と、日立計測器サービスのサポートエンジニア体制を強化し、ASML社製露光装置のさらなる拡販を図り、中期経営計画「NS2002」の達成に向けて取り組んでまいります。
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