2009年4月7日
株式会社日立ハイテクノロジーズ(執行役社長:大林 秀仁/以下、日立ハイテク)は、4月6日に経済産業省特許庁から平成21年度「知財功労賞」として「経済産業大臣表彰(特許戦略優良企業)」を受賞しました。なお、表彰式は4月17日に霞山会館(霞が関コモンゲート)(東京都千代田区)にて開催されます。
今回の受賞は、当社の知的財産戦略において下記の点が評価されたものです。
日立ハイテクは、フラッグシップ特許活動をはじめとする知的財産活動を日立製作所知的財産権本部および日立製作所の各研究所と連携しながら推進しています。
日立ハイテクは、知的財産権を経営における重要な資産として位置付けており、積極的な活用と価値の向上に取り組んでいます。今後も知的財産活動のより一層の推進を図り、企業価値の向上に努めていきます。
特許庁では、昭和62年より、毎年4月18日の「発明の日」に産業財産権制度の普及促進及び発展に貢献のあった個人及び企業に対し「知財功労賞」の表彰を行っています。
「知財功労賞」は、「産業財産権制度関係功労者表彰」及び「産業財産権制度活用優良企業等表彰」を総称したもので、産業財産権制度の普及促進と適正な実施に貢献のあったものを適切に表彰し、これを公表することにより、産業財産権制度関係者の士気の高揚を図り、国民の一層の理解と協力を得、もって産業財産権行政の円滑な遂行を図ることを目的としています。
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