2010年7月30日
株式会社日立ハイテクノロジーズは、2010年7月29日に、日本エフイー・アイ株式会社を当社の集束イオンビーム技術に関連する特許を侵害したとして、損害賠償の請求等を東京地方裁判所に提訴しました。
なお、2009年11月6日に、日本エフイー・アイ株式会社が日本国内における被疑製品の製造、販売等することを差し止めるよう東京地方裁判所に提訴しており*、現在係争中です。
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