－新開発の200kV 透過電子顕微鏡で、サブオングストロームの空間分解能を提供－
2015年5月11日
株式会社日立ハイテクノロジーズ（執行役社長：宮﨑正啓／以下、日立ハイテク）は、この度、球面収差補正器を搭載した、加速電圧200kVの電界放出形透過電子顕微鏡「HF5000形」を開発しました。
「HF5000形」は、当社の透過電子顕微鏡、走査透過電子顕微鏡の技術を融合し、サブÅ（サブオングストローム、0.1nm以下）の空間分解能を実現する新型200kV透過電子顕微鏡で、2015年10月より発売を開始する予定です。
近年、ナノ先端材料やデバイスの学術研究から企業における研究開発・品質管理までの幅広い分野で、電子顕微鏡の空間分解能と分析性能の向上が求められ、収差補正と分析効率の両立へのニーズが高まっています。これらのニーズに応えるため、日立ハイテクでは、球面収差補正器や大口径EDX*1を搭載した200kV走査透過電子顕微鏡や、300kV透過電子顕微鏡を開発してきましたが、収差補正・分析効率とともに、多様な観察手法から汎用的に用いられる、200kV透過電子顕微鏡プラットフォームにおける両製品技術の融合に対し、お客様から多くのご要望をいただいておりました。
今回、日立ハイテクでは、「サブÅレベルの高分解能観察・高感度分析を、200kV透過電子顕微鏡プラットフォームで実現する」というコンセプトのもと、球面収差補正器を搭載した、電界放出形透過電子顕微鏡｢HF5000形｣を開発しました。
｢HF5000形｣では、走査透過電子顕微鏡｢HD-2700形｣に搭載した自社開発の球面収差補正器や自動補正機能、原子分解能SE*2像観察などの特長を受け継ぐとともに、透過電子顕微鏡HFシリーズで培ったTEM*3技術を結集しました。さらに、当社が長年築いてきた冷陰極電界放出形電子源の技術をベースに電子銃の見直しを行うとともに、鏡体、試料ステージを一新し、本体性能・安定性を高めることで、新型200kV透過電子顕微鏡として開発しました。
これまで当社が培ってきた技術を、200kV透過電子顕微鏡に適用・融合することで、多様な観察手法への対応と、収差補正・分析効率の両立を可能としました。
日立ハイテクは、新型200kV電界放出形透過電子顕微鏡「HF5000形」の開発により、ハイエンドユーザーをはじめ幅広いユーザー向けに、サブÅレベルの高分解能観察・高感度分析をより多様な観察手法とともに提供してまいります。なお、出荷開始は2015年度後半を予定しています。
また、5月13日（水）から5月15日（金）まで、国立京都国際会館（京都府京都市）で開催される、「日本顕微鏡学会第71回学術講演会」の商業展示において、本機の参考パネル展示を行う予定です。
電界放出形透過電子顕微鏡「HF5000形」
| 電子源 | コールドFE電子銃 |
|---|---|
| 像分解能 | 0.078nm（ADF-STEM*6像） |
| 最高加速電圧 | 200kV |
| 収差補正器 | 日立製照射系球面収差補正器（標準搭載） |
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