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オプトエレクトロニクス






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ダイオキシン前駆体モニタ CP-2000/PCBモニタ CP-2000P
ごみ焼却場での排ガスに含まれるクロロフェノール、クロロベンゼンの濃度を、またPCB分解処理設備でのPCB濃度を連続的に測定・監視します。



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走査型白色干渉顕微鏡 VS1330
光干渉方式の特徴であるスピード・精度・分解能をそのままに、ISO国際標準に準拠した汎用計測ユニットとしてお使いいただける単眼ベースモデルです。 顕微鏡タイプのため微分干渉ユニットが装着でき微分干渉像も手軽に観察可能です。 卓上・小型タイプのコンパクト設計で場所をとらず、表面粗さ管理や膜厚管理といった検査工程に適したモデルです。

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ナノ3D光干渉計測システムVS1800
ナノ3D光干渉計測システムVS1800は、光の干渉現象を利用して微細な表面形状測定を行い、高機能フィルムや半導体、自動車部品、ディスプレイ業界において求められている高精度な計測を実現します。また、多層膜の層構造および層内部の異物計測を非破壊で行うことも可能です。



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超音波映像装置 FineSAT III
超音波映像装置FineSATは、半導体パッケージ、電子部品、セラミック・金属・樹脂部品などの内部ボイド、クラック、剥離などの欠陥を、超音波を使って非破壊で映像化する装置です。X線装置、赤外線検査装置、光学顕微鏡では検出できないナノメーターレベルの隙間も検出することができます。











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TOF-ICP-MS vitesse
ビテッセは、TOF(飛行時間型)質量分析計を採用した、Li~Uまでの全元素の同位体を同時に検出することができるICP質量分析装置です。NuのTOF MSは高感度であるだけでなく、広いダイナミックレンジが得られ、さらにオプションのQCT(フルサイズの四重極、セル)によって干渉を抑制することができます。これらの機能によって、ナノ粒子分析やレーザーアブレーション装置と組み合わせた元素マッピングに要求される最先端の高速多元素分析に対応できます。

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高分解能FEB測長装置 CG6300
分解能、測長再現性および画質を向上 高分解能FEB測長装置(CD-SEM) CG6300 は、電子光学系を一新することにより分解能を高め、測長再現性および画質の向上を図りました。 電子顕微鏡カラムは、材料から検出される二次電子または後方散乱電子を、計測対象によって選択可能とすることで、BEOL工程*1のVia-in-trench*2や3D-NAND、DRAMにおける深い溝や穴底の寸法計測を実現しました。 さらに電子ビームの走査速度を従来比2倍とすることでウェーハ表面での帯電影響を低減し、より高分解能画像の取得と高コントラストによるエッジ検出が可能となりました。 また新設計ステージにより、時間当たりのウェーハ処理枚数について従来比20%以上の高速化を図ることで生産性を高め、ユーザーのCost of Ownership*3を低減させます。加えて、デバイス量産化に対応するため、装置間差を最小に抑え、長期間安定した高い稼働率を実現します。


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日立ハイテクの材料開発ソリューション
MI(マテリアルズ・インフォマティクス)に関する各種サービス〔材料データ分析環境提供サービス、トライアル材料データ分析環境提供サービス、データ分析支援サービス、データ分析教育サービス、実験装置連携サービス(開発中)、計測・試験・分析 受託評価サービス〕をご提供します。