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電子顕微鏡・医用機器・ライフサイエンス製品日立ハイテクノロジーズ

イオンミリング装置 ArBlade® 5000

イオンミリング装置 ArBlade® 5000

日立イオンミリング装置の最上位機種。
ついにクラス最速の断面ミリングレート を達成しました。
高スループット断面ミリングによって、電子顕微鏡用の断面試料作製がさらに身近になりました。

価格:お問い合わせください
取扱会社:株式会社 日立ハイテクノロジーズ

*
ArBlade®は、日本国内における株式会社日立ハイテクノロジーズの登録商標です。

    特長

    断面ミリングレート 1 mm/h*1到達!

    イオンビームのさらなる高電流密度化を図った新開発のPLUSIIイオンガンによりミリングレートが大幅に向上*2しました。

    *1
    マスクエッジからSiを100 μm突出させて1時間加工した際の最大深さ。
    *2
    当社製品(IM4000PLUS:2014製)比で2倍のミリングレートを実現。

    断面ミリング結果比較
    (試料:シャープペンシルの芯、ミリング時間:1.5時間)

    当社製品IM4000PLUS
    当社製品IM4000PLUS

    ArBlade 5000
    ArBlade 5000

    最大断面ミリング幅 8 mmまで拡張!

    ワイドエリア断面ミリングホルダにより断面ミリング加工幅を8 mmまで拡張できるので、広領域ミリングが必要とされる電子部品などには有効です。

    ハイブリッドタイプのミリング装置

    IM4000シリーズで定評のあるハイブリッドタイプ(断面ミリング、フラットミリング®)のイオンミリング装置です。
    これにより目的に応じた試料前処理が可能です。

    *
    フラットミリング®は、日本国内における株式会社日立ハイテクノロジーズの登録商標です。

    断面ミリング

    割断や機械研磨では困難な柔らかい材料や複合材料の断面作製

    フラットミリング

    機械研磨試料の最終仕上げや試料表面の清浄化

    断面ミリング概略図
    断面ミリング概略図

    フラットミリング概略図
    フラットミリング概略図

     

    オプション

    冷却温度調整機能*1

    冷却温度調整機能付きArBlade5000
    冷却温度調整機能付きArBlade5000

    イオンビーム照射による試料の温度上昇が原因で、加工中に融解や変形する試料に有効なシステムです。過冷却による試料の割れなどを生じる試料には、冷却温度の調整機能によって、過冷却による試料の割れなどを防止することも可能です。

    *1
    冷却温度調整機能はArBlade5000本体と同時出荷オプションです。

    試料:ウッド合金

    常温ミリング
    常温ミリング

    冷却ミリング
    冷却ミリング

    加工時観察用実体顕微鏡

    最大100倍でミリング中の試料を観察できる実体顕微鏡です。
    CCDカメラ*2が搭載できる三眼タイプではモニター観察が可能です。
    右図の三眼タイプの他に双眼タイプも準備しています。

    *2
    CCDカメラおよびモニターはお客さま準備品です。

    加工時観察用実体顕微鏡
    (三眼タイプ)
    加工時観察用実体顕微鏡(三眼タイプ)

    仕様

    仕様
    共通
    使用ガス Ar(アルゴン)ガス
    加速電圧 0~8 kV
    断面ミリング
    最大ミリングレート(材料Si) 1 mm/hr*1 以上
    最大ミリング幅 8 mm*2
    最大試料サイズ 20(W) × 12(D) × 7(H) mm
    試料移動範囲 X ±7 mm、Y 0~+3 mm
    イオンビーム間欠照射機能 標準装備
    スイング角度 ±15°、±30°、±40°
    平面ミリング
    最大加工範囲 φ32 mm
    最大試料サイズ φ50 × 25(H) mm
    試料移動範囲 X 0~+5 mm
    イオンビーム間欠照射機能 標準装備
    回転速度 1 r/m、25 r/m
    傾斜角度 0~90°
    *1
    マスクエッジからSiを100 µm突出させて1時間加工した際の最大深さ。
    *2
    ワイドエリア断面ミリング機能使用時。

    オプション

    仕様
    項目内容
    冷却温度調整機能*3 液体窒素による間接試料冷却、温度設定範囲:0°C~-100°C
    高ビーム耐性マスク(Co-Zero®)*4 標準マスク比で約2倍のビーム耐性マスク(コバルト不含有)
    加工モニタリング用顕微鏡 倍率 15×~100× 2眼タイプ、3眼タイプ(CCD対応)
    *3
    本体同時出荷オプション。
    *4
    Co-Zero®は日本国内における株式会社 日立ハイテクノロジーズの登録商標です。

    技術機関誌 SI NEWS

    弊社製品を使用した社内外の研究論文、技術情報、アプリケーションおよび新製品情報を公開しています。

     
     

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