1980年より、光学装置、電子顕微鏡、イオン技術などで培った技術を基盤に半導体製造装置に進出し、1981年に笠戸工場に半導体製作課を設置、国分工場にてイオンビームミキシング装置を開発する。

1985年に笠戸工場に半導体製造装置工場が完成、1988年には世界初のマイクロ波エッチング装置を「セミコンジャパン」に出展した。日刊工業新聞社の「十大新製品賞」を受賞。1994年には低温ドライエッチング装置で通商産業大臣賞を受賞した。

その後、2000年に電力・電機グループから半導体製造装置部門が分離され、半導体製造装置グループとなった。