株式会社日立製作所笠戸工場では、1970年代にピークを迎えた化学装置製品の成熟を受け、計測器部門で培った超高精密技術を利用して、中央研究所の支援のもと半導体製造装置を製品化した。

1976年からは反応性スパッタエッチング法やマイクロ波プラズマエッチング法の技術開発を開始し、1982年にドライエッチング装置RE504Aを製品化した。

RE-504Aは日立製作所が1980年に業界に先駆けて開発した64KDRAMの量産ラインにも導入され、超LSIの微細化加工において大きな役割を果たす。64KDRAMは一気に世界トップシェアを築き、この時期を境に日本の半導体産業が世界トップに躍り出ることとなった。

その後も、反応性スパッタエッチング装置RE-655Aを完成し、当時の武蔵工場に導入されて、マイコン、ロジックなど種々の超LSIの生産に貢献した。