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Hitachi

株式会社 日立ハイテクノロジーズ

高加速CD-SEM CV5000 シリーズ

微小なデバイスパターンのオーバーレイ計測を実現

高加速CD-SEM CV5000シリーズは、最先端 デバイスパターンの深穴・溝底の回路線幅計測と、実デバイスパターン上でのオーバーレイ計測を可能とすることにより、お客様の半導体デバイス製造における生産性向上を強力にサポートします。

取扱会社:株式会社 日立ハイテクノロジーズ

特長

深穴・溝底の回路線幅計測・レビュー

  • 高加速対応電子光学系の新規開発、および深い穴・溝底から発生する二次電子(SE*1)や後方散乱電子(BSE*2)を角度・エネルギー別に弁別検出が可能な信号検出器の採用により、高アスペクトパターンの回路線幅計測を実現

デバイスパターンのオーバーレイ計測

  • 電子線によるインチップ領域でのオーバーレイ計測を実現
  • 最適加速電圧を選択することで、異層間(フォトレジスト層及びその下層など)のオーバーレイ計測が可能

既存CGシリーズと共通のプラットフォーム使用

  • 日立ハイテク独自の実績ある搬送系、制御系プラットフォームの採用により、高い安定稼働性と低CoO*3を提供
*1
SE(Secondary Electron):二次電子。入射した電子線に当たり、材料から出てくる電子
*2
BSE(Back Scattering Electron):後方散乱電子。入射した電子線が後方に反射して出てくる電子
*3
CoO(Cost of Ownership):設備・機器などの導入、運用管理に必要な全経費


深い底の回路線幅計測


高加速による上下層間のオーバーレイ計測

仕様

対応ウェーハサイズ  Φ300mm
(SEMI規格Vノッチウェーハ)
電子線加速電圧 最大30kV
計測機能 オーバーレイ計測付き
オートローダー 3 FOUP*4対応ランダムアクセス
電源 単相AC200V、208V、230V、12kVA(50/60Hz)
*4
FOUP(Front-Opening Unified Pod): SEMI(Semiconductor Equipment and Materials Institute)規格に準拠している300mmウェーハ用の搬送容器

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