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ナノアート

2009年度作品「Nano Universe」

Nano Universe
©(株)日立ハイテク 森川晃成、工藤美樹、藤澤亜希子、今野充

ガラス製品などの添加剤に用いられる酸化ビスマス粒子を樹脂包埋し、5nmステップで連続FIB加工・SEM像観察を行いました。得られた200枚のSEM像を三次元再構築し、粒子の立体的な分散状態を観察しました。それらはまるで、宇宙空間に漂う小惑星のような広がりを見せています。

2009年(第65回)日本顕微鏡学会
写真コンクール 最優秀作品賞受賞作品

撮影条件

  • 試料:酸化ビスマス
  • 測定装置:集束イオン/電子ビーム加工観察装置 nanoDUE'T® NB5000
  • 加速電圧:FIB 40 kV、SEM 5kV

*: 作成者の所属情報は作成当時の情報です。

*: この作品は日本顕微鏡学会主催、「写真コンクール」に出展された作品です。

*: 「nanoart」に掲載された写真、文章の無断転載を禁じます。

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*: 「nanoart」は(株)日立ハイテクの日本国内における登録商標です。

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