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陽極酸化によるパターン形成

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株式会社日立ハイテクサイエンス
ジャンル 半導体・エレクトロニクス, 無機材料
モード ラスター加工
測定領域 5µm
ステーション NanoNaviReal
装置 Nanocute

解説

(a)

(b)

(c)

Fig.1 陽極酸化による描画前後のシリコン表面
(a)描画前 (b)描画後

大気中で、導電性のAFM探針をシリコン基板に接触させ、試料側に正電圧を印下しながら走査すると、試料表面に存在する吸着水を介した陽極酸化反応を誘起し、ナノレベルの酸化物を形成することができます。近年、このようなナノリソグラフィの手法は、プローブ記録や新たなデバイスの作製法として注目されています。

Fig.1(a)は、陽極酸化を行う前のシリコン基板表面をDFM観察した画像です。試料側に+5Vの電圧を印加したラスタ加工により「SPM」という文字パターンを形成した後、DFM観察した画像がFig.1(b)です。
Fig.1(c)は色を変えた3D画像です。 1)

陽極酸化アート→2001年トライボロジー会議トライボアートコンテストに出品いたしました。

引用文献:
1) 山岡武博: "走査型プローブ顕微鏡の基礎と応用", 材料技術, 23(2005)211.

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